產(chǎn)品介紹
CVD管式爐由開啟式單(雙)溫區(qū)管式爐、高真空分子泵系統(tǒng)、壓強控制儀及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成。可實現(xiàn)高真空狀態(tài)下、混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。
CVD管式爐主要用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結等場所。
CVD管式爐是在高溫條件下通過一定的化學反應將物質(zhì)轉(zhuǎn)化成固態(tài)薄膜的一種重要設備。
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
CVD設備廠區(qū)實拍
pecvd設備實拍
CVD設備
CVD管式爐的工作原理
CVD管式爐在高溫條件下通過一定的化學反應將物質(zhì)轉(zhuǎn)化成固態(tài)薄膜。具體過程如下：在高溫下，氣態(tài)物質(zhì)經(jīng)過化學反應生成固態(tài)物質(zhì)，并在基材表面沉積。這個過程可以通過調(diào)節(jié)溫度、氣氛和時間等參數(shù)來控制薄膜的生長和性質(zhì)。
CVD管式爐的應用領域
材料科學研究：
CVD管式爐可用于合成各種高質(zhì)量、高性能的材料，如半導體材料、超導材料、陶瓷材料等。
能源領域：
CVD管式爐可用于制造太陽能電池、燃料電池等新能源器件。
電子領域：
CVD管式爐可用于制造各種電子器件，如半導體器件、集成電路等。
國防領域：
CVD管式爐可用于制造各種高性能的合金材料和復合材料，用于制造國防裝備和武器。
CVD管式爐是一種重要的實驗設備，在材料科學、能源、電子、國防等領域有著廣泛的應用。它具有高溫、高壓環(huán)境、高質(zhì)量薄膜、多樣的化學反應、自動化控制、高安全性等特點。
設備應用
針對材料的高溫燒結工藝保證耐熱及絕緣性可靠性設計，新型電極結構避免了高溫爐電極漏水現(xiàn)象，并且加熱系統(tǒng)中的易損部件更便于維修和更換。
耐熱性高
安全性好
維修高效
CVD管式爐（氣相沉積爐）主要用于
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硬質(zhì)合金
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陶瓷（氧化鋯陶瓷、氧化鋁陶瓷等）
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磁性材料
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粉末材料
技術參數(shù)
產(chǎn)品名稱 | CVD化學氣相沉積系統(tǒng) |
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產(chǎn)品型號 | BR-CVD/PECVD |
滑道 | 帶滑道，可滑動爐膛，實現(xiàn)快速升溫或冷卻功能 |
加熱區(qū)長度 | 400mm 單溫區(qū)/雙溫區(qū) |
爐管尺寸 | 直徑60x1200mm 外徑x長 |
爐管材質(zhì) | 高純石英管 |
工作溫度 | ≤1100℃ |
溫控系統(tǒng) | 人工智能PID儀表，自動控制溫度 |
溫控精度 | ±1℃ (具有超溫及斷偶報警功能) |
加熱速率 | 建議 0~10℃/min |
加熱元件 | 高品質(zhì)電阻絲 |
量計，雙卡套不銹鋼接頭，316L耐腐蝕材料
